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電子顯微鏡

超g分辨率場發射掃描電子顯微鏡SU9000

產品說明: 產品介紹日立2011年新推出了SU9000特點: 2. Hitachi專*設計的EB系統,可以自由控制SE和BSE檢測信號。 4. *新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。 6. 與FIB兼容的側...

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產品詳情

日立2011年新推出了超g分辨冷場發射掃描電鏡SU9000,達到掃描電鏡電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了*新改進的真空系統和電子光學系統,不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的Flashing操作,可以*效率的快速獲取樣品超g分辨掃描電鏡圖像。
 
特點:
1. 新型電子光學系統設計達到掃描電鏡世*高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。
2. Hitachi的E×B系統,可以自由控制SE和BSE檢測信號。
3. 全*真空技術設計使得SU9000冷場發射電子束具有超穩定和高亮度特點。
4. *新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。
5. STEM的明場像能夠調整信號檢測角度,明場像、暗場像和二次電子圖像可以同時顯示并拍攝照片。
6. 與FIB兼容的側插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。

應用領域:
1. 半導體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學

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